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水平晶體定向儀

水平晶體定向儀

簡(jiǎn)要描述:下一代垂直Laue晶體定向系統(tǒng)
有三種配置可供選擇——垂直、水平和顆粒圖——光子科學(xué)背反射Laue系統(tǒng)允許實(shí)時(shí)晶體定向,精度低至0.1度。
單晶的電光特性強(qiáng)烈依賴于晶體取向。Laue工具從單晶中收集高分辨率的X射線衍射圖案,從而能夠以優(yōu)異的精度選擇正確的晶面。

產(chǎn)品型號(hào): LAUESYS

所屬分類:晶體定向儀

更新時(shí)間:2024-05-07

詳細(xì)說(shuō)明:

 

    從非線性光學(xué)到噴氣發(fā)動(dòng)機(jī)渦輪葉片和超導(dǎo)材料,單晶材料在新型器件中發(fā)揮著重要作用。高分辨率晶體定向系統(tǒng)是捕獲和分析各種晶體材料的Laue衍射圖案的理想工具。


    使用專用軟件,可以快速準(zhǔn)確地測(cè)量單晶的取向

    該系統(tǒng)在樣品上提供小于0.3mm的強(qiáng)X射線束。單晶的電光特性強(qiáng)烈依賴于晶體取向。


    LAUE工具從單晶中收集高分辨率的X射線衍射圖,從中可以非常準(zhǔn)確地選擇正確的晶面切割。

    主要功能

    有垂直、水平和顆粒貼圖配置

    即插即用緊湊型機(jī)柜系統(tǒng)-無(wú)需定制工作臺(tái)或額外服務(wù)

    全自動(dòng)和電動(dòng)XYZ平臺(tái)和測(cè)角儀,可提供手動(dòng)選項(xiàng)

    CCD背反射、高分辨率、高靈敏度x射線探測(cè)器

    專有聚焦光學(xué)器件,提供較小的準(zhǔn)直光束尺寸

    使用機(jī)載高分辨率觀察相機(jī)快速精確地對(duì)準(zhǔn)小晶體

    用于精確和可重復(fù)樣品定位的距離測(cè)量工具

    專門的Laue軟件用于全面控制、數(shù)據(jù)采集、處理和分析

    高通量樣品篩選選項(xiàng)


    垂直Laue配置

    垂直Laue系統(tǒng)是最靈活的配置,它使用垂直光束路徑對(duì)隔離的多個(gè)晶體或多個(gè)感興趣的區(qū)域進(jìn)行高通量掃描。使用重力,樣品不需要粘附在平臺(tái)上,從而更容易安裝和定向晶體。光束尺寸小于200µm時(shí),可容納亞毫米范圍的樣品和渦輪合金等較大部件。


    水平Laue配置

    Laue系統(tǒng)也可采用傳統(tǒng)的水平幾何形狀。水平Laue系統(tǒng)非常適合定向晶體進(jìn)行切割或快速掃描晶體以識(shí)別反射。


    顆粒圖配置

    一種垂直系統(tǒng),具有特殊的相機(jī)、鏡頭、照明和繪圖軟件,用于測(cè)量每個(gè)顆粒的方向。Grain Map包括一個(gè)全電動(dòng)XYZ載物臺(tái)和角度計(jì)作為標(biāo)準(zhǔn),非常適合于硅片的晶粒映射。


     

     




     

     



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